蒙脫石混懸液均質機，如果采用SGN研磨均質機的話，不僅可以對蒙脫石混懸液粒徑進行細化，還可以將混懸液均質的更均勻。這取決于上海思峻研磨均質機的特殊設計，SGN研磨均質機將膠體磨和均質機合二為一，先研磨細化粒徑，再對物料進行均質，使蒙脫石混懸液更加細膩、均勻、穩(wěn)定。
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蒙脫石混懸液由主藥蒙脫石、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等*。其具有服用劑量準確、服用攜帶方便、粒度較細、服用后可快速均質到人體消化道、效果更好等多種優(yōu)點。混懸液的制備原則首先是使粉粒潤濕并在液體均質介質中均勻均質，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防止結塊。
制備方法通常混懸液的有兩種：均質法和凝聚法。由于蒙脫石本身的性質我們采用的是均質法，混懸液中微粒的大小不僅關系到混懸液的質量和穩(wěn)定性，也會影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測定混懸液中微粒大小及其分布，是評定混懸液質量的重要指。由于本研究的蒙脫石采用的是法國益普生公司研制的商品名為思密達的蒙脫石散劑，故其微粒大小符合要求，無需測其微粒大小。
當蒙脫石混懸液的工藝配方確定時，為了降低沉降系數(shù)，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數(shù)。蒙脫石混懸液粒徑的細化，取決于均質設備的選擇。如果采用SGN研磨均質機的話，不僅可以對蒙脫石混懸液粒徑進行細化，還可以將混懸液均質的更均勻。這取決于上海思峻研磨均質機的特殊設計，SGN研磨均質機將膠體磨和均質機合二為一，先研磨細化粒徑，再對物料進行均質，使蒙脫石混懸液更加細膩、均勻、穩(wěn)定。
GMD2000系列研磨均質設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨均質乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料均質乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
GMD2000系列均質機的結構：研磨式均質機是由錐體磨,均質機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。均質頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
選型表
| 規(guī)格 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | ||
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | ||
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | ||
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | ||
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | ||
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | ||
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||||
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