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首頁>產(chǎn)品中心>膠體磨>高剪切膠體磨>GMSD2000*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備

*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備

簡要描述:

*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備,頭孢噻呋注射液研磨分散機
是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同。

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*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備

頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機 將鹽酸頭孢噻呋原料藥加入復合溶媒中攪拌,充分混勻得混懸液;將助懸劑加入注射劑溶媒中并在80℃~90℃下溶解得溶解液;將溶解液冷卻至室溫后加入到混懸液中,攪拌均勻得混合液;再加入抑菌劑于混合液中,加入剩余的注射級溶媒定至全量,攪拌混勻;然后過高速剪切分散機,再過膠體磨,滅菌,制得長效鹽酸頭孢噻呋注射液。*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備

(價格電議,錢 ,)

頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機 混懸劑的質(zhì)量要求是:藥物本身化學性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定,有效期內(nèi)藥物含量符合要求;混懸微粒細微均勻,微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求;微粒沉降緩慢,口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90,沉降后不結(jié)塊,輕搖后應(yīng)能迅速分散;混懸劑的粘度應(yīng)適宜,傾倒時不沾瓶壁;外用混懸劑應(yīng)易于涂布,不易流散;不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象;標簽上應(yīng)注明“用前搖勻”。*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備

此次北京某客戶來SGN尋求理想的研磨設(shè)備,他們的項目急需上馬,但苦于國產(chǎn)膠體磨的效果達不到(粒徑在15微米以下,原始粒徑50微米)。按照SGN工程師的建議和設(shè)備選型,使用了GMSD2000/4高剪切研磨分散機,進行了30分鐘的實驗,實際效果*符合客戶的預(yù)期!

頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機  的研磨效果 

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點:

1.膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

2.膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

3. 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

4.循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

(價格電議,錢 ,)

頭孢噻呋注射液膠體磨, 

是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機流量*輸出線速度功率入口/出口連接
類型l/hrpmm/skW 
GMSD 2000/430014,000444DN25/DN15
GMSD 2000/5100010,5004411DN40/DN32
GMSD 2000/1030007,3004422DN80/DN65
GMSD 2000/2080004,9004437DN80/DN65
GMSD 2000/30200002,8504455DN150/DN125
GMSD2000/50600002,00044110DN200/DN150


(價格電議,錢 ,)

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: *的頭孢噻呋膠體磨 進口頭孢噻呋研磨機 頭孢噻呋研磨設(shè)備 德國研磨分散設(shè)備 進口膠體磨

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